使用旋轉圓盤(pán)電極的時(shí)候要控制好其深度

　　在測量時(shí)電極浸入測量溶液不宜太深，一般以2～3mm為宜。電極的轉速要適當，太慢時(shí)自然對流起主要作用，太快時(shí)則會(huì )出現湍流，不能得到有效參數。要求在旋轉過(guò)程中保證電極表面出現層流狀態(tài)。

　　旋轉圓盤(pán)電極的極限擴散電流密度公式，由V.G.Levich(前蘇聯(lián))于1942年提出，Levich方程如下，極限擴散電流iL是研究電化學(xué)動(dòng)力學(xué)的重要參數。如果在不同轉速條件下測得iL值，作iL-ω1/2圖，可求出D;用標準溶液標定后可測反應物種的濃度，常用于定量分析。

　　使用旋轉圓盤(pán)電極的時(shí)候，測量電極浸入測量溶液不宜太深，一般以2～3mm為宜。電極的轉速要適當，太慢時(shí)自然對流起主要作用，太快時(shí)則會(huì )出現湍流，不能得到有效參數。要求在旋轉過(guò)程中保證電極表面出現層流狀態(tài)。利用這些測量可以探測一些復雜電極反應的機理和獲取更多的電極過(guò)程信息。因此在現代電化學(xué)測量中是常用的測試手段，電鍍添加劑的作用機理的探討或添加劑性能的比較，都可以用到旋轉圓盤(pán)電極來(lái)進(jìn)行測試。

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